一种温室种植灌溉系统
- 专利权人:
- 张大伟
- 发明人:
- 张大伟
- 申请号：
- CN201810704451.1
- 公开号：
- CN108834671A
- 申请日:
- 2018.07.01
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 郑学成
- 摘要：
- 本发明公开了一种温室种植灌溉系统，包括支架结构、喷淋机构和遮阳机构，所述支架结构包括前后方向上设置的纵梁和左右方向上设置的横梁，纵梁的底部通过数个支柱安装在地面上，两根纵梁机构之间设有一根横梁，横梁的底部安装喷淋机构，且在横梁与纵梁之间设有纵向移位机构，喷淋机构与横梁之间设有横向移位机构，遮阳机构包括数个遮阳单元，遮阳单元包括拱形架和行走机构，拱形架位于纵梁的上方，拱形架的两端分别固定安装于行走机构上；本发明设计能够移位的喷淋机构以及能够收合移位的遮阳机构，能够在同一个温室大棚内的不同区域形成不同的灌溉和光照条件，便于对比试验的进行，降低成本。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
