杀真菌的三唑并嘧啶、其制备方法、其在防治有害真菌中的用途和包含所述物质的试剂

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专利权人:

巴斯福股份公司

发明人:

J·托尔莫艾布拉斯科,C·布莱特纳,B·穆勒,M·格韦尔,W·格拉门奥斯,T·格罗特,A·吉普瑟,J·莱茵海默,P·舍费尔,F·席韦克,A·施沃格勒尔,E·安莫曼,S·斯特瑞斯曼,G·洛伦兹,R·施蒂尔勒,U·舍夫尔

申请号：

CN03806656.4

公开号：

CN1324030C

申请日:

2003.03.19

申请国别(地区):

中国

年份:

2007

代理人:

刘金辉`林柏楠

摘要：

本发明涉及式(I)的三唑并嘧啶，其中各取代基定义如下：L¹代表氰基、S(＝O)_nA¹或C(＝O)A²，其中A¹代表氢、羟基、烷基、烷基氨基或二烷基氨基；A²代表C₁-C₈烷氧基、C₁-C₆卤代烷氧基或在A¹下所提到的基团之一；n代表0、1或2；L²、L³代表氢或卤素；L⁴、L⁵代表氢、卤素或烷基；X代表卤素、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基或卤代烷氧基；R¹代表烷基、卤代烷基、环烷基、卤代环烷基、链烯基、链二烯基、卤代链烯基、环烯基、炔基、卤代炔基或环炔基、苯基、萘基或包含1—4个选自O、N或S的杂原子的5—10元饱和、部分不饱和或芳族杂环；R²代表氢或R¹；R¹和R²也可与它们所键合的氮原子一起形成可以被选自O、N和S的原子间隔和/或可以被取代的5-或6-元环；其中R¹和/或R²可以根据说明书被取代。本发明还涉及用于制备所述化合物的方法和中间产物，包含所述化合物的组合物以及所述化合物在防治有害真菌中的用途。∴

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/