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レトルト装置
专利权人:
MIURA CO LTD
发明人:
KANAZAWA KENJI,金澤 健司,MATSUKAWA TAIZO,松川 泰三
申请号:
JP2010254780
公开号:
JP2012105549A
申请日:
2010.11.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a retort apparatus capable of providing secure sterilization effects by reducing the time necessary for increasing the temperature of a treated object to a prescribed temperature.SOLUTION: A control means 30 increases the temperature within a treatment tank 12 to a first target temperature TA by jetting high-temperature steam into the treatment tank 12 from a first steam jet nozzle 16 in the initial stage of a heating treatment step and when the temperature within the treatment tank 12 reaches the first target temperature TA, a heat medium 32 is heated to a second target temperature TB by jetting high-temperature steam to the heat medium 32 stored in the treatment tank 12 from a second steam jet nozzle 18. When the temperature T2 of the heat medium reaches the second target temperature TB, the temperature T1 of the treatment tank is increased to a third target temperature TC by jetting high-temperature steam from one or both of first and second steam jet nozzles 16 and 18 while jetting the heat medium 32 from a heat medium jet nozzle 14, and this state is retained.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】被処理物を所定温度まで昇温させるために要する時間を短縮化して確実な殺菌効果が得られるレトルト装置を提供する。【解決手段】制御手段30は、加熱処理工程の初期段階で、第1の蒸気噴射ノズル16から処理槽12の内部に高温蒸気を噴射させることにより、処理槽12内部の温度を第1の目標温度TAまで加熱させ、処理槽12内部の温度が第1の目標温度TAに到達したならば、第2の蒸気噴射ノズル18から処理槽12に貯留されている熱媒体32に高温蒸気を噴射することにより熱媒体32を第2の目標温度TBまで加熱させる。熱媒体温度T2が第2の目標温度TBに到達したならば、熱媒体噴射ノズル14から熱媒体32を噴射させつつ第1、第2の蒸気噴射ノズル16、18の一方または双方から高温蒸気を噴射させることにより、処理槽温度T1を第3の目標温度TCまで加熱させ、その状態を維持する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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