CHAMBRE DE COMMERCE ET D'INDUSTRIE DE REGION PARIS ILE DE FRANCE (ESIEE PARIS);CHAMBRE DE COMMERCE ET DINDUSTRIE DE REGION PARIS ILE DE FRANCE (ESIEE PARIS)
The invention relates to a process for manufacturing at least one implant for focal electrical stimulation of a nervous structure, said implant being of the type including in a supporting structure a network of cavities (3) at the bottom of which are placed microelectrodes (4), the cavities (3) being bounded by walls (3a) erected and located around the microelectrodes (4), the supporting structure being produced beforehand by implementing the following steps: deposition and etching, in a planar manner, on an insulating substrate (10, 11), of electrical contacts (7), of electrical tracks (6a, 6b) and of microelectrodes (4), first tracks (6a) electrically connecting the microelectrodes (4) and the electrical contacts (7), second electrical tracks (6b) being electrically connected to a ground.L'invention concerne un procédé de fabrication d'au moins un implant pour la stimulation électrique focale d'une structure nerveuse, ledit implant étant du type comportant sur un support un réseau de cavités (3) au fond desquelles sont disposées des microélectrodes (4), les cavités (3) étant délimitées par des parois (3a) dressées et situées autour des microélectrodes (4), le support étant préalablement réalisé en mettant en œuvre les étapes suivantes : dépôt et gravure, de façon planaire, sur un substrat isolant (10, 11), des contacts électriques (7), des pistes électriques (6a, 6b) et des microélectrodes (4), des premières pistes (6a) reliant électriquement les microélectrodes (4) et les contacts électriques (7), des deuxièmes pistes électriques (6b) étant reliées électriquement à une masse.