自适应光学设备、成像设备和自适应光学方法
- 专利权人:
- 佳能株式会社
- 发明人:
- 广濑太,齐藤贤一
- 申请号：
- CN201010515585.2
- 公开号：
- CN102038490B
- 申请日:
- 2010.10.22
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及自适应光学设备和包括该自适应光学设备的成像设备。自适应光学设备包括：光调制单元，其被配置为在与被检物光学共轭的位置处调制光的两个偏振分量中的每一个偏振分量，所述光由光源发射；以及照射单元，其被配置为用被光调制单元调制的光照射被检物。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
