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Hydrocarbons free from deposits or embedments and chemical composition and methods for remediation of hydrogen sulfide and other contaminants
专利权人:
GAPS TECHNOLOGY; LLC
发明人:
ROE, Cliffton,SCHWEITZER, Linda
申请号:
CO2020001913
公开号:
CO2020001913A2
申请日:
2020.02.21
申请国别(地区):
CO
年份:
2020
代理人:
摘要:
A treatment process for remediation of contaminated liquid containing more than 5 ppm hydrogen sulfide and essentially no sediment formation, including the process of adding an aqueous solution containing at least one hydrogen oxide compound to the collective concentration of the contaminated liquid by weight of 35% to 55%, so as to: When the concentration of hydrogen oxide compound in the polluted liquid reaches 125-5000 ppm, at least one organic acid is added to the liquid to make the concentration in the polluted liquid reach 0.01-10 ppm,And the aqueous solution and organic acid are dispersed in the polluted liquid, and the aqueous solution and organic acid are allowed to react with the polluted liquid for a period of time, until the concentration of hydrogen sulfide in the polluted liquid is reduced to ≤ 5 ppm.Un proceso de tratamiento para remediar un líquido contaminado que contiene más de 5 ppm de ácido sulfhídrico, y sustancialmente sin formación de precipitado, incluye las etapas de adicionar una solución acuosa que contiene por lo menos un compuesto de hidróxido a una concentración colectiva de 35 a 55% en peso al líquido contaminado para lograr una concentración de 125 a 5000 ppm de los compuestos de hidróxido en el líquido contaminado, adicionar por lo menos un ácido orgánico al líquido para lograr una concentración de 0.01 a 10 ppm en el líquido contaminado, y dispersar la solución acuosa y el o los ácidos orgánicos en el líquido contaminado y permitir a la solución acuosa y el o los ácidos orgánicos reaccionar con el líquido contaminado por un período hasta que una concentración de ácido sulfhídrico en el líquido contaminado se reduzca a ≤ 5 ppm.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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