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組織再生基材
专利权人:
DOSHISHA
发明人:
HAGIWARA AKIRO,萩原 明郎,TAKAMORI HIDEKI,高森 秀樹,MATSUZAKI MITSUTAKA,松崎 光隆
申请号:
JP2013115294
公开号:
JP2016146854A
申请日:
2013.05.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anagenesis substrate excellent in invasiveness of cell, and suitable for regeneration of normal tissue.SOLUTION: In a tissue regeneration substrate comprising a nonwoven fabric composed of a bioabsorbable material, the nonwoven fabric has a pore size distribution measured by a bubble point method, in which the ratio of pores having the diameter of 5-30 μm is 70% or more, the ratio of pores having the diameter below 5 μm is 5% or less, and the ratio of pores having the diameter over 30 μm is 10% or less.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】細胞の侵入性に優れ、かつ、正常な組織の再生に好適な組織再生基材を提供する。【解決手段】生体吸収性材料からなる不織布からなる組織再生基材であって、前記不織布は、バブルポイント法により測定した孔径分布において、孔径5~30μmの孔の割合が70%以上、5μm未満の孔の割合が5%以下、かつ、30μmを超える孔の割合が10%以下である組織再生基材。【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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