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OUTIL DE TRAITEMENT ÉNERGÉTIQUE ET SYSTÈME DE TRAITEMENT
专利权人:
オリンパス株式会社;OLYMPUS CORPORATION
发明人:
HONDA, Yoshitaka,本田吉隆,KAWAGUCHI, Yuki,川口佑樹
申请号:
JPJP2017/017016
公开号:
WO2018/198339A1
申请日:
2017.04.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
In the present invention, a bipolar electrode applies a high-frequency electric current through a treatment object between a pair of gripping pieces and forms a first temperature distribution caused by the high-frequency electric current in the treatment object. A treatment energy source imparts a treatment energy separate from the high-frequency electric current to the treatment object, and thereby forms a second temperature distribution caused by the treatment energy in the treatment object. The bipolar electrode and the treatment energy source are capable of forming a state in which a region of relatively high temperature in the first temperature distribution is positioned in a region of relatively low temperature in the second temperature distribution.Dans la présente invention, une électrode bipolaire applique un courant électrique haute fréquence à travers un objet de traitement entre une paire de pièces de préhension et forme une première distribution de température provoquée par le courant électrique haute fréquence dans l'objet de traitement. Une source d'énergie de traitement confère une énergie de traitement séparée du courant électrique haute fréquence appliqué à l'objet de traitement, et forme ainsi une seconde distribution de température créée par l'énergie de traitement dans l'objet de traitement. L'électrode bipolaire et la source d'énergie de traitement sont capables de former un état dans lequel une région de température relativement élevée dans la première distribution de température est positionnée dans une région de température relativement basse dans la seconde distribution de température.バイポーラ電極は、一対の把持片の間で処置対象を通して高周波電流を流し、前記処置対象において高周波電流に起因する第1の温度分布を形成する。処置エネルギー源は、前記高周波電流とは別の処置エネルギーを前記処置対象に付与させることにより、前記処置対象において前記処置エネルギーに起因する第2の温度分布を形成する。前記バイポーラ電極及び前記処置エネルギー源は、前記第1の温度分布において相対的に温度の高い領域が前記第2の温度分布において相対的に温度の低い領域に位置する状態を、形成可能である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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