Other hole or mortar and tableting devices containing it

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专利权人:

토와 가부시기가이샤

发明人:

오가타 켄지,히가시 다이스케

申请号：

KR1020187031057

公开号：

KR1020180136965A

申请日:

2016.11.18

申请国别(地区):

KR

年份:

2018

代理人:

摘要：

The other positive holes 14 and 16 or the mortar 13 are provided with a base material 10 and a tableting surface layer 20 on the base material 10. The tableting surface layer 20 comprises crystalline yttrium oxide containing nitrogen and a Group 4A element.타정공이(14, 16) 또는 절구(13)는, 기재(10)와, 기재(10)상의 타정표면층(20)을 구비하고 있다. 타정표면층(20)은, 질소와 4A족 원소를 함유하는 결정질의 산화이트륨을 포함한다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/