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顔面マスク及び顔面マスク装置
专利权人:
伊藤超短波株式会社
发明人:
千賀 富士敏,荒川 長寿
申请号:
JP2007181133
公开号:
JP5100224B2
申请日:
2007.07.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a face mask and a face mask apparatus, which are capable of applying electrodes to appropriate positions on the face of a user and improving the aesthetic and treatment effects.SOLUTION: The face mask 2 is for applying electric signals output from an electric signal output device 3 to the face of the user. The face mask 2 includes a mask body part 13 to cover the face, and attached parts 22 provided at the mask body part 13 to which electrodes 4 connected to the electric signal output device 3 are attached. A plurality of the attached parts 22 are previously disposed at positions on the nerves of the face while the face is covered with the mask body part 13.COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT【課題】顔面の適切な位置に電極を印加することができ、美容や治療効果を向上させることができる顔面マスク及び顔面マスク装置を提供すること。【解決手段】電気信号出力装置3から出力された電気信号を顔面に印加するための顔面マスク2であって、前記顔面を覆うマスク本体部13と、前記マスク本体部13に設けられ、前記電気信号出力装置3に接続された電極4が取り付けられる取り付け部22とを備え、前記取り付け部22は、前記マスク本体部13が前記顔面を覆った状態で、前記顔面の神経上に配される位置にあらかじめ複数配置されていることを特徴とする。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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