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método de aplicação de uma composição e composição farmacêutica com um regime de administração da mesma
专利权人:
FARHAD HAFEZI
发明人:
FARHAD HAFEZI,OLIVIER RICHOZ
申请号:
BR112015030233
公开号:
BR112015030233A2
申请日:
2014.06.04
申请国别(地区):
BR
年份:
2017
代理人:
摘要:
Abstract invention patent: \"method of application of a composition and pharmaceutical composition with a regimen of administration of the same. The present invention relates to, in particular, the problem of resistant pathogens and cancer cells.It is provided a method of applying a composition to an individual human or human, or an object, or a surface area and a pharmaceutical composition with a regimen of administration of the same to an individual human or non-human.The composition comprises a chemical component active for death of or delay of the proliferation of target cells, including pathogens, infected cells and cancer cells.The application of the composition and the scheme of administration of the composition are accompanied by at least one exposure to electromagnetic radiation in a wavelength range, in which the active chemical component absorbs, and which has a lower limit of 190 nm, thereby fotoativ I m the active component.resumo patente de invenção: "método de aplicação de uma composição e composição farmacêutica com um regime de administração da mesma". a presente invenção refere-se, em particular, ao problema de patógenos resistentes e células de câncer. é fornecido um método de aplicação de uma composição a um indivíduo humano ou não humano, ou a um objeto, ou uma área de superfície e uma composição farmacêutica com um regime de administração da mesma a um indivíduo humano ou não humano. a composição compreende um componente químico ativo para morte de, ou retardo da proliferação de células-alvo, incluindo patógenos, células infectadas e células de câncer. a aplicação da composição e o regime de administração da composição são acompanhados por, pelo menos, uma exposição à radiação eletromagnética em uma faixa de comprimento de onda, em que o componente químico ativo absorve, e que tem um limite inferior de 190 nm, desse modo, fotoativando o componente ativo.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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