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HETEROCYCLYL COMPOUNDS AS MEK INHIBITORS
专利权人:
LUPIN LIMITED;루핀 리미티드
发明人:
DAVE BHAVESH,데이브, 바베쉬,BANERJEE RAKESH KUMAR,배너지, 라케쉬, 쿠마르,PHUKAN SAMIRON,푸칸, 사미론,KHOJE ABHIJIT DATTA,코제, 아브히짓, 다타,HANGARGE RAJKUMAR,한가르지, 라지쿠마르,JADHAV JITENDRA SAMBHAJI,자드하브, 지텐드라, 삼브하지,PALLE VENKATA
申请号:
KR1020147028557
公开号:
KR1020140138911A
申请日:
2013.03.11
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present disclosure is related to heteroaryl compounds as MEK inhibitors. These compounds include heteroaryl compounds of formula I, their pharmaceutically acceptable salts, combinations with suitable medicament and pharmaceutical compositions thereof. The present disclosure also includes processes of preparation of the compounds and their use in methods of treatment. The compounds as disclosed herein are of Formula (I) below:본 발명은, MEK 억제제로서 헤테로아릴 화합물에 관한 것이다. 이러한 화합물은, 식(I)의 헤테로아릴 화합물, 그 약제학적으로 허용 가능한 염, 적절한 약과의 조합, 및 그 약제 조성물을 포함한다. 본 발명은, 또한, 상기 화합물을 제조하는 방법과, 치료 방법에서 상기 화합물을 사용하는 방법을 포함한다. 본 명세서에 기재된 화합물은 아래 식(I)의 화합물이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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