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Cosmetic makeup base for removable skin with warm water COSMETIC MAKEUP BASE FOR REMOVABLE SKIN WITH WATER TIBIA
专利权人:
Shiseido Company Ltd.
发明人:
KISHINA, Takahiro,KANEKO, Katsuyuki,TATSUTA, Amane,SATO, Yukiko,SHUDO, Minako,YAMAGUCHI, Masahiko,USUKI, Hiroyo,NOSAKA, Mikino,TAKESHITA, Nozomi
申请号:
ES13845869
公开号:
ES2661877T3
申请日:
2013.10.11
申请国别(地区):
ES
年份:
2018
代理人:
摘要:
A skin makeup base applied to the skin before applying a skin makeup cosmetic, the makeup base comprising an aqueous phase containing water as a continuous phase and containing (a) a vinyl acetate homopolymer (b ) polyhydric alcohol, and (c) a hydrophilic non-ionic surfactant having an HLB of 8 or higher, in which (a) the vinyl acetate homopolymer is 0.5 to 7% by mass in the makeup base and dispersed as particles in the aqueous phase, (b) the polyhydric alcohol is 0.5 to 5.5 parts by mass relative to 1 part by mass of (a) the vinyl acetate homopolymer and (c) the surfactant Non-ionic hydrophilic is 1 to 5% by mass in the makeup base.Una base de maquillaje para la piel aplicada a la piel antes de aplicar un cosmético de maquillaje para la piel, comprendiendo la base de maquillaje una fase acuosa que contiene agua como una fase continua y conteniendo (a) un homopolímero de acetato de vinilo (b) alcohol polihídrico, y (c) un tensioactivo no iónico hidrófilo que tiene un HLB de 8 o superior, en la que (a) el homopolímero de acetato de vinilo es de 0,5 a 7% en masa en la base de maquillaje y se dispersa como partículas en la fase acuosa, (b) el alcohol polihídrico es de 0,5 a 5,5 partes en masa con relación a 1 parte en masa de (a) el homopolímero de acetato de vinilo y (c) el tensioactivo no iónico hidrófilo es de 1 a 5% en masa en la base de maquillaje.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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