A substrate includes a double-network polymer system including a cross-linked, covalently-bonded polymer and a reversible, partially ionicly-bonded polymer, wherein the substrate has a moisture level less than or equal to 15 percent of the total weight of the substrate, and wherein the substrate includes a latent retractive force. A method for manufacturing a substrate includes producing a double-network hydrogel including a cross-linked, covalently-bonded polymer and a reversible, ionicly-bonded polymer； elongating by force the double-network hydrogel in at least one direction； dehydrating while still elongated the double-network hydrogel to form a substantially-dehydrated double-network polymer system； and releasing the force to produce the substrate.Un sustrato incluye un sistema polimérico de doble red que incluye un polímero reticulado, unido covalentemente y un polímero reversible, unido iónicamente en parte, en donde el sustrato tiene un nivel de humedad menor o igual que 15 por ciento del peso total del sustrato, y en donde el sustrato incluye una fuerza retráctil latente. Un método para fabricar un sustrato incluye producir un hidrogel de doble red que incluye un polímero reticulado, unido covalentemente y un polímero reversible, unido iónicamente； alargar a la fuerza el hidrogel de doble red al menos en una dirección； deshidratar el hidrogel de doble red mientras se mantiene alargado para formar un sistema polimérico de doble red sustancialmente deshidratado； y liberar la fuerza para producir el sustrato.
