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Chemical vapor deposition of fluorocarbon polymers
专利权人:
ザ ジレット カンパニー
发明人:
アンドリュー、ウラジーミロビッチ、ジューク,ネビル、ソネンバーグ
申请号:
JP2015548063
公开号:
JP2016509127A
申请日:
2013.12.18
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
A method is provided for forming a fluorocarbon polymer on the surface of a structure. The feed gas decomposes the feed gas to produce reactive species containing (CF2) n radicals (where n = 1 or 2) near the structure surface where the fluorocarbon polymer is formed. The structure surface is maintained at a temperature below the temperature of the porous heating member, and on the surface of the structure, (CF2) n radicals (here In which n = 1 or 2).構造体の表面上にフッ化炭素ポリマーを形成する方法が提供される。供給ガスは、供給ガスを分解して、フッ化炭素ポリマーが形成される構造体表面の付近にある、(CF2)nラジカル(ここで、n=1又は2である)を含む反応種を生成するのに十分な温度を有する多孔質加熱部材を通すように導かれ、構造体表面は、多孔質加熱部材の温度未満の温度に維持され、構造体表面上で、(CF2)nラジカル(ここで、n=1又は2である)の蒸着と重合を誘発する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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