Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung (10) zur Optimierung einer Bestrahlung mit einer Partikelbestrahlungsanlage (20) mit mehreren Strahlauslässen (31, 32). Nach einer ersten Bestrahlung mit einem ersten Teilchenstrahl aus einem ersten der Strahlauslässe (31) werden erste Arbeitsschritte (S5, S7) durchgeführt, welche ein Erzeugen eines Initialzustands bezüglich des ersten Strahlauslasses (31) umfassen. Für eine Vorbereitung oder Durchführung einer der ersten Bestrahlung nachfolgenden zweiten Bestrahlung mit einem zweiten Teilchenstrahl, welcher aus einem zweiten der Strahlauslässe (32) emittiert wird, werden zweite Arbeitsschritte (S4, S6, S8) durchgeführt. Dabei wird zumindest einer der zweiten Arbeitsschritte (S4, S6, S8) zeitlich vor oder zeitlich parallel zu den ersten Arbeitsschritten (S5, S7) durchgeführt.The method involves moving (S1) a ripple filter and a range shifter in initial position during primary irradiation through particle beam outlets and storing the beam exposure data in nonvolatile memory. The ripple filter and range shifter are moved (S3) in specific position where secondary irradiation is performed. The control parameters of particle irradiation unit according to irradiation are generated. The patient is positioned (S6) to secondary irradiation position and then the secondary irradiation is performed in time same as that of primary irradiation. Independent claims are included for the following: (1) a device for optimizing irradiation to patient (2) a computer program product for optimizing irradiation to patient and (3) an electronic readable data carrier for storing program for optimizing irradiation to patient.
