组合物、膜、带膜基材、带膜基材的制造方法及修饰基材
- 专利权人:
- 富士胶片株式会社
- 发明人:
- 三井哲朗
- 申请号：
- CN201880039420.7
- 公开号：
- CN110809405A
- 申请日:
- 2018.10.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的课题在于提供一种能够形成具有优异的抗菌性及优异的除臭性的膜及修饰基材的组合物。并且,本发明的另一课题在于提供一种膜、带膜基材、带膜基材的制造方法及修饰基材。本发明的组合物含有:含有第1金属的无机物;选自包括含有与上述第1金属不同的第2金属的无机物及含有上述第2金属的有机物的组中的至少1种含有第2金属的成分;及溶剂。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
