Vorrichtung mit einer Rechen- oder Steuereinrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass es konfiguriert ist, um ein Verfahren zur Überprüfung von Lage- oder Positionsdaten eines Instrumentes (1) mit wenigstens einem ersten Abschnitt (5) und wenigstens einem zweiten Abschnitt (3) durchzuführen, wobei der erste Abschnitt (5) wenigstens einen ersten Sensor (15a) aufweist und der zweite Abschnitt (3) wenigstens einen zweiten Sensor (11a) aufweist, und wobei das Verfahren ein messtechnisches Bestimmen der Lage oder Position, oder deren Veränderung, des ersten Sensors (15a) und des zweiten Sensors (11a) umfasst; wobei das Verfahren die Schritte umfasst:– Bestimmen einer Ausprägung eines veränderlichen Merkmals des räumlichen Bezugs zwischen der Lage oder Position des ersten Sensors (15a) und/oder wenigstens eines Punktes auf dem ersten Abschnitt (5) einerseits und der Lage oder Position des zweiten Sensors (11a) und/oder wenigstens eines Punktes auf dem zweiten Abschnitt (3) oder dem ersten Abschnitt (5), der durch den zweiten Sensor referenziert wird, andererseits, zu jeweils wenigstens einem ersten Zeitpunkt (t1), zu einem zweiten Zeitpunkt (t2) und zu einem dritten Zeitpunkt (t3);– Ermitteln anhand eines Kriteriums, ob ein Unterschied in der Ausprägung des veränderlichen Merkmals zwischen einer ersten Ausprägung zum ersten Zeitpunkt (t1) und einer zweiten Ausprägung zum zweiten Zeitpunkt (t2) zum dritten Zeitpunkt (t3) noch besteht.Device having a computing or control device, characterized in that it is configured to perform a method for checking position or position data of an instrument (1) having at least a first portion (5) and at least a second portion (3) the first section (5) has at least one first sensor (15a) and the second section (3) has at least one second sensor (11a), and wherein the method comprises a metrological determination of the position or position, or its modification, of the first sensor (15) 15a) and the second sensor