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等离子照射装置以及前端设备
专利权人:
日本特殊陶业株式会社
发明人:
伊藤伸介
申请号:
CN202080008898.0
公开号:
CN113287372A
申请日:
2020.06.01
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
等离子照射装置(20、320、420、520、620、720、820)具备气体引导路径(30)和沿面放电部(40、340、440、540、640、740、840)。沿面放电部(40、340、440、540、640、740、840)的放电电极和接地电极的一方直接或者经由其他构件而面向流路(36),并与周期性变化的电压施加于放电电极相应地在流路(36)内产生沿面放电。并且,接地电极的至少一部分配置于比放电电极靠放出口(34)侧处。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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