具有生长抑素受体激动活性的化合物及其医药用途
- 专利权人:
- 小野药品工业株式会社
- 发明人:
- 石田昭治,吉田笃史,宫田英典,正野知行
- 申请号：
- CN201880010853.X
- 公开号：
- CN110300749A
- 申请日:
- 2018.07.02
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供了一种生长抑素受体亚型2激动剂。本发明所公开的通式(I)表示的化合物(其中每个符号都具有如说明书中所定义相同的意义)或其盐是具有生长抑素受体亚型2强激动活性的低分子量化合物且可以口服给药。因此,本发明化合物可以容易地服用,并能够有助于减轻患者治疗所伴随的疼痛。本发明化合物还具有相对于其SSTR2激动活性足够弱的hERG抑制活性和/或磷脂沉积作用,因此可抑制或者减轻由前述活性/作用引起的副作用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
