An exemplary sound processor within a cochlear implant system directs a cochlear implant to concurrently apply first and second pulses by way of first and second electrodes disposed on an electrode lead configured to be inserted into a cochlea of a patient. The first and second pulses have substantially equal magnitudes and opposite phases such that the application of the first and second pulses forms a dipole that generates a field. The sound processor further directs the cochlear implant to detect, by way of a third electrode disposed on the electrode lead, an energy magnitude of the field that reflects from cochlear tissue located within the field. Based on a difference between the detected energy magnitude of the field and a baseline energy magnitude of the field, the sound processor determines a proximity of the electrode lead to the cochlear tissue. Corresponding systems and methods are also disclosed.À titre d'exemple, la présente invention concerne un processeur de son situé à l'intérieur d'un système d'implant cochléaire qui dirige un implant cochléaire afin qu'il applique simultanément des première et seconde impulsions au moyen de première et seconde électrodes disposées sur un fil d'électrode conçu pour être inséré dans la cochlée d'un patient. Les première et seconde impulsions présentent des amplitudes sensiblement égales et des phases opposées de telle sorte que l'application des première et seconde impulsions forme un dipôle qui génère un champ. Le processeur de son dirige en outre l'implant cochléaire afin qu'il détecte, au moyen d'une troisième électrode disposée sur le fil d'électrode, une intensité d'énergie du champ qui est réfléchie par le tissu cochléaire situé dans le champ. En fonction d'une différence entre l'intensité d'énergie détectée du champ et une intensité d'énergie de base du champ, le processeur de son détermine une proximité du fil d'électrode par rapport au tissu cochléaire. L'invention porte également sur des systèmes et des pro
