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ANTIMICROBIAL COMPOSITION INCLUDING A RESIDUAL BARRIER FILM
专利权人:
HYPROTEK, INC.; INC.;히프로테크, 인크.;HYPROTEK
发明人:
TENNICAN PATRICK O.,테니칸, 패트릭, 오.
申请号:
KR1020147014439
公开号:
KR1020140097251A
申请日:
2012.11.28
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
This disclosure describes example antimicrobial compositions that may be used in combination with IV port cleansing caps, protective caps, or both. According to another implementations, the disclosure describes various cap devices that may be used in combination with the antimicrobial composition to cleanse, sanitized, and/or disinfected a surface.본 발명은 IV 포트 세정 캡들, 보호성 캡들, 또는 비강 데콜로나이저 장치와 조합하여 사용될 수 있는 예시적인 항균 조성물을 기재하고 있다. 또 다른 구현예들에 따르면, 본 발명은 항균 조성물이 세정되고 있는 표면 상에서 기포나 발포에 의해 오염물과 접촉했다는 표시를 제공할 수 있다는 것을 기재한다. 또 다른 구현에 따르면, 본 발명은 항균 조성물이 세정된 표면의 재오염을 억제하기 위하여, 잔류하는 막 또는 차단층을 남길 수 있다는 것에 대하여 기재하고 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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