This X-ray phase imaging device (100) comprises an X-ray detector (2) for detecting emitted X-rays and a plurality of diffraction gratings (3) that each include a grating area (36) where a grating is formed on part of a substrate (34). At least one of the plurality of diffraction gratings (3) has a grating area (36) that includes a first part (37) where the thickness of the substrate (34) is larger and a second part (38) where the thickness of the substrate (34) is smaller than at the first part (37).Ce dispositif d'imagerie de phase à rayon X (100) comprend un détecteur de rayon X (2) pour détecter des rayons X émis, et une pluralité de réseaux de diffraction (3) qui comprennent chacun une zone de réseau (36) où un réseau est formé sur une partie d'un substrat (34). Au moins l'une de la pluralité de réseaux de diffraction (3) présente une zone de réseau (36) qui comprend une première partie (37) où l'épaisseur du substrat (34) est plus grande et une seconde partie (38) où l'épaisseur du substrat (34) est plus petite que celle de la première partie (37).このＸ線位相イメージング装置（１００）は、照射されたＸ線を検出するＸ線検出器（２）と、基板（３４）の一部に格子が形成された格子領域（３６）を含む複数の回折格子（３）とを備え、複数の回折格子（３）のうち少なくとも１つは、格子領域（３６）内において、基板（３４）の厚みが大きい第１部分（３７）と第１部分（３７）よりも基板（３４）の厚みが小さい第２部分（３８）とを含む。
