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コンディショニング洗浄剤の製造方法
专利权人:
ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン
发明人:
フォルカー・ショイネマン,エリック・シュルツェ・ツーア・ヴィーシェ,ディルク・ヘントリッヒ
申请号:
JP2014500345
公开号:
JP2014509610A
申请日:
2012.03.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to a process for the preparation of a conditioning detergent comprises the following steps to: a) is at least a C 10 -C 24 one fatty acid at least one alkyl (oligo) glycosides, (ii) and glycerin (i) at least different one ester, (iii) and (ii) at least one oil, and the step of providing a microemulsion containing (iv) water, and and b) the microemulsion, the formula (I): Wherein is 1, R 2 residues R, independently of one another, or represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1 -C 4 alkyl radical, respectively, is a constituent of a cyclohexane ring or cyclopentane ring represents an alkylene group, independently of one another, or represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, C 1 -C 4 alkyl group, a hydroxyalkyl group, a phenyl group, respectively, 3, R 4 residues R are cyclopentane ring or represents an alkylene group, which is a component of a cyclohexane ring, independently of one another, or represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or a C 1 -C 4 alkyl group, 5, R 6 residues R are the residues R One 5, R 6, well, may have one or more hydroxyl groups have been blocked with an amide group and / or ester groups of one or more saturated or unsaturated, branched or unbranched, represents a C 1 -C 20 alkyl chain, however, 3, R 4 residues R does not represent a hydroxyl group at the same time] step of mixing a cosmetic carrier containing a polyhydroxy compound of at least one at shown.本発明は、次のステップを含むコンディショニング洗浄剤の製造方法に関する:a)(i)少なくとも1種のアルキル(オリゴ)グリコシド、(ii)グリセリンと少なくとも1種のC10-C24脂肪酸との少なくとも1種のエステル、(iii)(ii)とは異なる少なくとも1種の油、および、(iv)水を含有するマイクロエマルションを提供するステップ、およびb)該マイクロエマルションと、式(I):[式中、残基R1、R2は、互いに独立して、水素原子、C1-C4アルキル基またはフェニル基を表すか、または、それぞれ、シクロペンタン環またはシクロヘキサン環の構成成分であるアルキレン基を表し、残基R3、R4は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、C1-C4アルキル基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基を表すか、または、それぞれ、シクロペンタン環またはシクロヘキサン環の構成成分であるアルキレン基を表し、残基R5、R6は、互いに独立して、水素原子、C1-C4アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表すか、または、残基R5、R6の1つは、1以上のエステル基および/またはアミド基で遮られていてよく、1以上のヒドロキシル基を有してよい、飽和または不飽和、分枝状または非分枝状C1-C20アルキル鎖を表し、ただし、残基R3、R4は同時にヒ
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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