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水素含有炭化酸化珪素膜およびその形成方法
- 专利权人:
- 神港精機株式会社
- 发明人:
- 寺山 暢之
- 申请号：
- JP20150232955
- 公开号：
- JP2017101265(A)
- 申请日:
- 2015.11.30
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】低コストで生産可能であり、比較的、耐熱性の低い母材から成る被処理物にも適用可能な、超親水性を呈する水素含有炭化酸化珪素膜の提供。【解決手段】５ａｔ％〜３０ａｔ％の水素を含有し、前記水素以外に、珪素と炭素と酸素とから成る水素含有炭化酸化珪素膜。珪素に対する炭素の原子組成比が、０．５以下であり、珪素に対する酸素の原子組成比が、２以上であり、炭素の組成比は、８ａｔ％以下である水素含有炭化酸化珪素膜。前記水素含有炭化酸化珪素膜は、超親水性を呈する。材料ガスとしてＴＭＳガス及び酸素ガスを用いたプラズマＣＶＤ法によって、とりわけＰＩＧ放電式のプラズマＣＶＤ法によって、形成される超親水性を呈する水素含有炭化酸化珪素膜の製造方法。その際、酸素ガスの流量がＴＭＳガスの流量の５倍以上と
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
