您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Photocurable composition, denture base and denture base
专利权人:
三井化学株式会社
发明人:
酒巻 俊一
申请号:
JP2019510200
公开号:
JPWO2018181832A1
申请日:
2018.03.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
A photocurable composition used for stereolithography, which is at least one selected from di (meth) acrylic monomers having two aromatic rings and two (meth) acryloyloxy groups in one molecule. (Meth) acrylic monomer (X) having a weight average molecular weight of 400 or more and 580 or less, (meth) acrylic monomer having at least one aromatic ring and one (meth) acryloyloxy group in one molecule A photocurable composition containing a (meth) acrylic monomer (D) which is at least one selected and has a weight average molecular weight of 140 or more and 350 or less, and a photopolymerization initiator.光造形に用いられる光硬化性組成物であって、 1分子中に2個の芳香環と2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有するジ(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり重量平均分子量が400以上580以下である(メタ)アクリルモノマー(X)と、1分子中に少なくとも1個の芳香環、及び1個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり、重量平均分子量が140以上350以下である(メタ)アクリルモノマー(D)、並びに、光重合開始剤を含有する光硬化性組成物。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充