您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

大面積X線源を使用した汚染除去・滅菌システム
专利权人:
CABOT MICROELECTRONICS CORP
发明人:
BUSTA HEINZ,ブスタ,ハインツ,LESIAK STANLEY,レシアク,スタンリー
申请号:
JP2012198336
公开号:
JP2013034870A
申请日:
2012.09.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly efficient x-ray treatment system which allows decreased installation and operational costs.SOLUTION: The x-ray treatment system uses a large area flat panel source which comprises an electron source, an electron accelerator, and an electron target medium, and a target substance within a target zone 829 is irradiated with radiation of x-rays 831, 833, 835 and 837 from the one or more flat panel sources 821, 823, 825 and 827 reducing the biological effects of a contaminant presence in the target substance.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】取り付け上及び作業上のコストを低減した、高効率なX線処理システムを提供する。【解決手段】電子源、電子加速器、及び電子ターゲット媒体から構成された大面積フラットパネル源を利用し、ターゲット・ゾーン829内部のターゲット物質には、1つ又は2つ以上のフラットパネル源821、823,825、827からX線831、833、835,837が照射され、ターゲット物質中の汚染物質の生物学的作用を低減する。【選択図】図8b
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充