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化妆料
专利权人:
捷鸥化妆品株式会社
发明人:
木村弘子
申请号:
CN201680010847.5
公开号:
CN107249549B
申请日:
2016.28.01
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
通过使用下述的合成滑石制备透明性、伸展率、光滑性、对肌肤的亲和度及安全性优异的化妆料,所述合成滑石为用2片四面体片材夹住八面体片材而形成的基本结构的薄片状粒子,所述薄片状粒子包含以下述通式(1)表示的2:1型层状硅酸盐的结晶,该薄片状粒子的体积平均粒径为0.5~100μm,在使用了Cu的Kα射线的不定向粉末X射线衍射测定(XRD)中,存在于2θ=9.4°±1°的峰的半值半宽度为0.3°以下,且实质上不含有Mg3Si2O5(OH)4。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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