The present invention relates to a preparation method of a medical porous implant and a porous implant prepared thereby, and more specifically, to a preparation method of a porous implant and a porous implant prepared thereby, wherein the preparation method comprises: a filling step of filling a material comprising a metal powder and a ceramic powder into a mold and a sintering step of applying 100-2,000 kgf/cm2 of pressure to the material filled in the mold and simultaneously generating 500-2000 A of current and 3-7 V of voltage using a spark plasma sintering device so as to allow current to flow throughthe material, thereby sintering the material at 800-1,400 ℃. The porous implant is harmless to the human body, and can be prepared within a short time at low temperatures, thereby reducing manufacturing costs.La présente invention concerne un procédé de préparation dun implant médical poreux et un implant poreux préparé par le biais de ce procédé. Plus particulièrement, linvention concerne un procédé de préparation dun implant poreux et un implant poreux préparé par le biais de ce procédé, le procédé de préparation comprenant : une étape de remplissage destinée à remplir un moule avec une substance comprenant une poudre métallique et une poudre céramique et une étape de frittage destinée à appliquer une pression de 100 à 2 000 kgf/cm2 sur la substance remplissant le moule et à générer simultanément un courant de 500 à 2 000 A et une tension de 3 à 7 V en utilisant un dispositif de frittage flash de sorte à permettre à un courant de circuler à travers la substance, permettant de mettre en œuvre le frittage de la substance à une température située dans la plage allant de 800 à 1 400 °C. Limplant poreux est inoffensif dans le corps humain, et peut être préparé en un temps court à de faibles températures, réduisant ainsi les coûts de fabrication.본 발명은 의료용으로 사용되는 다공성 임플란트의 제조방법 및 그로부터 제조된 다공성 임플란트에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 금속 분말 또는 세라믹 분말로 이루어진 원료를 몰드에 충진하는 충진단계와 통전소결장치를 이용하여 상
