清洁化妆料

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专利权人:

富士胶片株式会社

发明人:

田代朋子,小杉拓治

申请号：

CN201180022450.5

公开号：

CN102883707B

申请日:

2011.04.25

申请国别(地区):

CN

年份:

2014

代理人:

摘要：

一种清洁化妆料，其含有：(A)含量为30质量％以上、I/O值在0.05～0.25范围内的第一油性成分；(B)含量超过10质量％、具有脂肪族烃链且不具有不饱和脂肪族烃链的液状乳化剂；以及(C)类胡萝卜素。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/