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一种碳氮硼纳米片光抗菌材料的制备方法
- 专利权人:
- 福州大学
- 发明人:
- 郭良洽,林天然
- 申请号：
- CN201710052228.9
- 公开号：
- CN106829960B
- 申请日:
- 2017.01.24
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 蔡学俊`林文弘
- 摘要：
- 本发明公开了一种碳氮硼纳米片光抗菌材料的制备方法，具体包括以下步骤：（1）前驱体的制备：往氮源溶液中加入硼源，超声溶解后，加入二氧化硅微球溶胶或氧化铝纳米颗粒作为模板，蒸干，然后取出研磨均匀；（2）前驱体的煅烧：将步骤（1）制得的前驱体置于马弗炉中，煅烧，随后冷却，取出研磨均匀；（3）模板的去除：将步骤（2）研磨均匀的材料加入到氟化氢铵溶液或盐酸溶液中，振摇提纯后制得产品。本发明制得的碳氮硼纳米片光抗菌材料具有片层结构，层堆积较少，表面电势较高，稳定性较好，经过高温高压处理后仍能保持抗菌效果；该产品可见光捕获能力明显增强，无需与其他化合物复合，就能在可见光下对大肠杆菌产生明显的抗菌作用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
