石斛立体种植方法
- 专利权人:
- 蔡仲玉;王跃峰;徐继宏
- 发明人:
- 蔡仲玉,王跃峰,徐继宏
- 申请号：
- CN200410040384.6
- 公开号：
- CN1596595A
- 申请日:
- 2004.08.02
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2005
- 代理人:
- 何健
- 摘要：
- 石斛立体种植方法，是采用高1500～2500mm，宽140～400mm的墙体(1)的两个侧面作为种植面，在墙体上均布设有公称尺寸为30～120mm的孔洞(2)，培植土(4)放入孔洞(2)内，将石斛株苗(5)栽植在培植土(4)中，并在墙体(1)顶部设置滴灌装置(3)，以滴灌方式保持墙体湿润，并5～8天对株苗施以营养液，使整个墙体逐步生成苔藓，利于株苗生长，在墙体上方设置有遮阳网(6)用以控制光照强度。本发明使石斛能够在良好的生长环境里生长，且成活率高，具有明显的经济价值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
