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专利权人:
F. HOFFMANN-LA ROCHE AG.*
发明人:
CLAUS RIEMER,HASANE RATNI,HENNER KNUST,MATTHIAS NETTEKOVEN,PHILIPPE JABLONSKI,ANGELIQUE PATINY-ADAM
申请号:
MX2012001799
公开号:
MX2012001799A
申请日:
2010.08.20
申请国别(地区):
MX
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention relates to a compounds of formula (I) wherein R1 is hydrogen or lower alkyl R2 is hydrogen, lower alkyl, lower alkyl substituted by halogen or is halogen or CN, and may be independently from each other if o is 2 Ar1 is aryl or heteroaryl Ar2 is aryl or heteroaryl R/R" are independently from each other hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, halogen, C(O)- lower alkyl, cyano or lower alkyl substituted by halogen m is 0, 1, or 2 when n is 0 or m is 0 or 1 when n is 1 n is 0 or 1 o is 1 or 2 or to pharmaceutically active salts, racemic mixtures, enantiomers, optical isomers or to tautomeric forms thereof. It has been found that the present compounds are high potential NK-3 receptor antagonists for the treatment of depression, pain, psychosis, Parkinsons disease, schizophrenia, anxiety and attention deficit hyperactivity disorder (ADHD).La presente invención se relaciona con los compuestos de la fórmula I en donde R1 es hidrógeno o alquilo inferior R2 es hidrógeno, alquilo inferior, alquilo inferior substituido por halógeno o es halógeno o CN, y puede ser independientemente uno de otro si o es 2 Ar1 es arilo o heteroarilo Ar2 es arilo o heteroarilo R´/R´´ son independientemente uno de otro hidrógeno, alquilo inferior, alcoxi inferior, halógeno, C(O)-alquil inferior, ciano o alquilo inferior substituido por halógeno m es 0, 1, o 2 cuando n es 0 o m es 0 o1 cuando n es 1 n es 0 o 1 o es 1 o 2 o sales farmacéuticamente activas, mezclas racémicas, enantiómeros, isómeros ópticos o a formas tautoméricas de los mismos. Se ha encontrado que los presentes compuestos son antagonistas del receptor NK-3 altamente potenciales para el tratamiento de depresión, dolor, psicosis, enfermedad de Parkinson, esquizofrenia, ansiedad, trastorno de hiperactividad con déficit de atención (ADHD).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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