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洗浄剤組成物及びその製造方法、並びに、両親媒性化合物、及び組成物
专利权人:
ライオン株式会社
发明人:
今田 浩,野村 雅子,尾林 裕子
申请号:
JP2010543979
公开号:
JPWO2010073855A1
申请日:
2009.11.18
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Decreasing protein denaturation and skin irritation, it designates the cleaning agent composition whose mild Characteristic is higher and that its production manner is offered as purpose. Namely, the cleaning agent composition of this invention is displayed with the below-mentioned constitutional formula (1) features that the chemical compound which is contained.(C direct or shows alkyl chain of branched chain however, aforementioned constitutional formula in (1), Rha, hydrogen or carbon count shows alkyl group have been allowed to have possessed hydroxyl group of 1 - 3, to proton where R carbon count shows alkyl group which hydroxyl group 2 - 6 1 characteristics is done, as for A, alkaline metal and alkaline earths metal, and is possible to have possessed hydroxyl group of carbon count 6 or less either of amine which is converted is shown.)蛋白変性や皮膚刺激性を低減して、よりマイルド性の高い洗浄剤組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。即ち、本発明の洗浄剤組成物は、下記構造式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする。(ただし、前記構造式(1)において、C10は、直鎖又は分岐鎖のアルキル鎖を示し、Rは、水素又は炭素数1~3の水酸基を有していてもよいアルキル基を示し、Rは、炭素数2~6の水酸基を1個有するアルキル基を示し、Aは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び炭素数6以下の水酸基を有していてもよいプロトン化されたアミンのいずれかを示す。)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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