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通过将流体暴露于紫外线来使流体受到消毒处理的设备
- 专利权人:
- 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 发明人:
- E·蒙特,E·霍尔沃达,林大雄,G·格洛伊尔
- 申请号：
- CN201180036816.4
- 公开号：
- CN103025665A
- 申请日:
- 2011.07.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 一种用于通过将流体暴露于紫外线来使流体受到消毒处理的设备包括反应器(10)，反应器(10)具有内空间(11)，用于使流体进入内空间(11)的入口(12)以及用于使流体从该内空间(11)流出的出口，其中在内空间(11)中配置用于发射紫外光的装置(20)。该光线发射装置(20)包括单个电极，其中，环绕内空间(11)的壁(14)被适配为作为电极并且包括导电材料，并且其中，该设备还包括也包括导电材料并且被配置为局部地增强该反应器壁(14)与该光线发射装置(20)之间的空间中的导电性的装置(30)。通过应用这些装置(30)，可以改善紫外光的消毒效果。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
