SMITH, Matthew J.,SHAMES, Samuel,GIBSON, Michael,COHEN-TANUGI, David
申请号：
USUS2016/022105
公开号：
WO2016/149117A1
申请日:
2016.03.11
申请国别(地区):
US
年份:
2016
代理人:
摘要：
Methods and apparatuses for manipulating the temperature of a surface are provided. Devices of the present disclosure may include a thermal adjustment apparatus, such as a controller in electrical communication with one or more thermoelectric materials, placed adjacent to the surface of skin. The device may generate a series of thermal pulses at the surface, for providing an enhanced thermal sensation for a user. The thermal pulses may be characterized by temperature reversibility, where each pulse includes an initial temperature adjustment, followed by a return temperature adjustment, over a short period of time (e.g., less than 120 seconds). The average rate of temperature change upon initiation and upon return may be between about 0.100/sec and about 1 OOC/sec. In some cases, the average rate of the initial temperature adjustment is greater in magnitude than the average rate of the return temperature adjustment.L'invention concerne des procédés et des appareils de manipulation de la température d'une surface. Les dispositifs de la présente invention peuvent comprendre un appareil de réglage thermique, tel qu'un contrôleur en communication électrique avec un ou plusieurs matériaux thermoélectriques, placé adjacent à la surface de la peau. Le dispositif peut générer une série d'impulsions thermiques au niveau de la surface, pour fournir une sensation thermique améliorée à un utilisateur. Les impulsions thermiques peuvent être caractérisées par une réversibilité de température, chaque impulsion ayant un réglage de la température initiale suivi d'un réglage de la température de retour, sur une courte durée (moins de 120 secondes, par ex.). Le taux moyen de changement de température entre la température initiale et la température de retour peut être entre environ 0,1 °C/sec et environ 10,0 °C/sec. Dans certains cas, le taux moyen du réglage de la température initiale est supérieur en amplitude au taux moyen du réglage de la température de retour.
