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一种压力感测式足底轮廓扫描设备
专利权人:
发明人:
林基焜
申请号:
CN202221665037.2
公开号:
CN218356211U
申请日:
2022.06.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2023
代理人:
摘要:
本实用新型公开了一种压力感测式足底轮廓扫描设备,包括检测仪主体和两个辅助踏板,所述检测仪主体的顶部设置有压力感测区域,用于检测时脚部的踩踏检测,所述检测仪主体的左右两侧表面均转动设置有两个限位板,所述限位板的端部固定有限位块,所述检测仪主体的顶部表面和辅助踏板的顶部表面均开设有限位槽,所述限位块嵌入至辅助踏板顶部的限位槽中;通过设置的限位板、限位块、限位槽、T形基筒和转动限位结构,使得足底压力检测仪在使用期间,操作人员可将辅助踏板与检测仪主体稳定的连接在一起,解决了原装置中辅助踏板与检测仪主体容易在后续踩踏检测过程中发生分离位移的问题,从而提高足底压力检测仪使用时的稳定性和便捷性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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