干式工艺处理方法
- 专利权人:
- 株式会社东芝
- 发明人:
- 森田修介,千草尚,横田昌广,西村孝司,东间秀之
- 申请号：
- CN201710111124.0
- 公开号：
- CN107865974A
- 申请日:
- 2017.02.28
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 周欣`陈建全
- 摘要：
- 本发明的目的在于提供能够不将对象物润湿地进行杀菌或除臭、安全性高的干式工艺处理方法。根据实施方式，干式工艺处理方法是通过使盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而不将存在于上述空间内的对象物润湿地使次氯酸成分到达，进行上述对象物的杀菌或除臭的干式工艺处理方法。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
