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偏光光照射装置及び偏光光照射方法
专利权人:
株式会社ブイ・テクノロジー
发明人:
橋本 和重,新井 敏成
申请号:
JP20150209415
公开号:
JP2017083545(A)
申请日:
2015.10.23
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】偏光光照射装置を小型化する、特に長手方向の長さを短くすることができる。【解決手段】対象物が載置されるステージと、対象物の走査方向と略直交する方向に沿った略帯状の偏光光を照射する偏光光照射部と、偏光光照射部から照射された光の特性を測定する光学測定器とは、偏光光照射部が待機位置にあるときは水平方向の位置が重ならないように設けられる。光源移動部は、偏光光照射部を対象物の走査方向に沿って移動させて、光学測定部の上を通過させ、またステージの上を通過させる。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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