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一种双层高熵合金复合薄膜及其制备方法和应用
专利权人:
江苏理工学院
发明人:
王泽,宋永晶,孙志娟,汤嘉立,谈文胜,夏少华,杨晓红,叶霞,李小平,卢雅琳,雷卫宁,张扬
申请号:
CN202010471428.X
公开号:
CN111575650A
申请日:
2020.05.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明属于高熵合金技术领域,具体涉及一种双层高熵合金复合薄膜及其制备方法和应用。所述复合薄膜的底层为铜层,表层为(CoCrFeMnNi)Xy,层间具有共格结构,X为非金属元素O或N,Co、Cr、Fe、Mn、Ni、X元素原子比为1:1:1:1:y,y=0.1~0.8。本发明还提供了一种所述的双层高熵合金复合薄膜的制备方法,采用自动共溅技术在Si基体先沉积铜薄膜,然后连续在铜薄膜表面沉积(CoCrFeMnNi)Xy薄膜,形成纵向成分和力学性能变化的双层高熵合金复合薄膜。本发明双层高熵合金复合薄膜与基体结合良好,同时具有高电阻率和高韧性高硬度的特点,在柔性微机电系统电阻器上具有重要的应用价值。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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