基材の粗面化方法、基材の表面処理方法、溶射皮膜被覆部材の製造方法及び溶射皮膜被覆部材
- 专利权人:
- トーカロ株式会社
- 发明人:
- 横田 博紀,川井 大輔,水津 竜夫
- 申请号：
- JP20170514023
- 公开号：
- JPWO2016170895(A1)
- 申请日:
- 2016.03.23
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- パワー密度を１．０×１０７〜１０９Ｗ／ｃｍ２とし、かつ照射位置への作用時間を１．０×１０−７〜１０−５ｓとしたレーザを、セラミックス基材（２）に大気中で照射して、セラミックス基材（２）の表面を粗面化するとともに、粗面化表面（２ａ）に酸化膜３を形成する。これにより、基材強度の大きな低下を引き起こさず、かつ、粗面化表面（２ａ）による物理的密着力に加え、化学的親和力の作用により、セラミックス基材（２）の上に形成される溶射皮膜との高い密着性を得る。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
