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マッサージ装置支持基材。
专利权人:
株式会社アテックス
发明人:
原島 徹
申请号:
JP2012002041
公开号:
JP3176630U
申请日:
2012.04.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention user without inhibiting the rotation and vibration of the treatment elements of massage equipment hanging leaning on the backrest of a massage chair, also, massage chair to comfortably perform the massage to the user of the massage chair I provide. The invention relates to a massage device supporting substrate 1 supporting the massaging device in the backrest of a massage chair, a long plate-shaped base body 2 provided with a massage device mounting portion 4 for mounting the massage device on the surface, an elastic body 3 which is provided on the back surface at both ends of the substrate main body 2, and applied pressure of a user for pressing the elastic body 3 to absorb the massage device to rest on the backrest. .BACKGROUND【課題】使用者がマッサージ椅子の背凭れ部に凭れ掛かってもマッサージ装置の施療子の回転や振動を阻害することなく、また、マッサージ椅子の使用者に対して快適にマッサージを行わせるマッサージ椅子を提供する。【解決手段】マッサージ椅子の背凭れ部でマッサージ装置を支持するマッサージ装置支持基材1であって、マッサージ装置を取り付けるマッサージ装置取付部4を表面に設けた長板状の基材本体2と、基材本体2の裏面両端に設けた弾性体3とからなり、背凭れ部に凭れ掛かってマッサージ装置を押圧する使用者の圧力を弾性体3が吸収する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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