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DNA損傷を修復するRNA分子
专利权人:
三浦;典正
发明人:
三浦 典正
申请号:
JP2017547864
公开号:
JPWO2017073689A1
申请日:
2016.10.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Obtain a new and effective DNA damage composition.A DNA damage improving composition comprising a nucleotide sequence of sequence number 1 or a nucleotide sequence of 1 to 3 bases lacking, substituted, inserted or added to base sequences is used. Alternatively, there may be used a DNA damage improving composition comprising a vector encoding a polynucleotide comprising a base sequence of sequence number 1 or a base sequence of deletions, inserts, or added to one or more bases with respect to its base sequence.新規で有効なDNA損傷改善用組成物を取得する。 配列番号1の塩基配列、又はその塩基配列に対して1~3個の塩基が欠失、置換、挿入、もしくは付加された塩基配列、を含むポリヌクレオチドを含有する、DNA損傷改善用組成物を用いる。又は、配列番号1の塩基配列、又はその塩基配列に対して1~3個の塩基が欠失、置換、挿入、もしくは付加された塩基配列、を含むポリヌクレオチドをコードするベクターを含有する、DNA損傷改善用組成物を用いてもよい。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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