PURPOSE: A treatment apparatus of harmful gas and a treatment method of the same are provided to increase the reaction time of plasma and harmful gas by inducing harmful gas to flow to the opposite direction of plasma. CONSTITUTION: A treatment apparatus of harmful gas includes a plasma generating unit(100) and a counter-flow chamber(200). The plasma generating unit generates plasma by applying a voltage to a part between a cathode and an anode. The counter-flow chamber is connected to the plasma generating unit. The counter-flow chamber injects harmful gas to the opposite direction of plasma. The counter-flow chamber exhausts plasma treated harmful gas to the external side of the chamber. [Reference numerals] (AA,BB) Harmful gas플라즈마와 유해가스의 혼합을 극대화시켜 대용량의 유해가스가 주입되어도 일정한 분해효율을 달성할 수 있는 플라즈마와 유해가스의 대향류를 이용한 유해가스 처리장치가 개시된다. 이를 위하여 음전극과 양전극 사이에 전압을 가하여 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생수단, 및 상기 플라즈마 발생수단의 후단에 연결 설치되고, 외부로부터 공급된 유해가스를 상기 플라즈마 흐름과 반대 방향으로 주입하며, 플라즈마 처리된 유해가스를 외부로 배출하는 대향류 챔버를 포함하는 플라즈마와 유해가스의 대향류를 이용한 유해가스 처리장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 플라즈마의 흐름과 반대 방향으로 유해가스를 주입하므로 플라즈마의 흐름과 동일 방향으로 유해가스를 주입하는 경우보다 플라즈마와 유해가스의 혼합이 충분히 이루어지고, 플라즈마와 유해가스가 혼합되는 고온영역에서 유해가스의 체류 시간이 증가되므로 분해효율이 향상된다.
