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DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LA FOURNITURE DE CHAMP ÉLECTRIQUE PULSÉ HAUTE TENSION À UN FLUIDE
专利权人:
TOP B.V.
发明人:
VAN DEN BOSCH, Henricus Franciscus Maria,SCHUTEN, Henricus Johannes,VAN SCHEPDAEL, Ludo
申请号:
NLNL2013/050655
公开号:
WO2014/042526A1
申请日:
2013.09.11
申请国别(地区):
NL
年份:
2014
代理人:
摘要:
The invention provides a device for applying a pulsed high voltage electric field (PEF) treatment to a (laminar) fluid flow, said device comprising a chamber comprising an inlet with an inlet cross sectional area, an outlet, a treatment zone, and at least a first and a second electrode positioned for providing an axialelectric field in said treatment zone, wherein the cross sectional area of the treatment zone is at least as large as the cross sectional area of the inlet.La présente invention concerne un dispositif pour l'application d'un traitement de champ électrique pulsé haute tension (PEF) à un flux de fluide (laminaire), ledit dispositif comportant une chambre comprenant un orifice d'entrée avec une surface de section transversale d'orifice d'entrée, un orifice de sortie, une zone de traitement, et au moins une première et une seconde électrode positionnées pour fournir un champ électrique axial dans ladite zone de traitement, la surface de section transversale de la zone de traitement étant au moins aussi étendue que la surface de section transversale de l'orifice d'entrée.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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