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普那霉素ⅡA晶体
专利权人:
浙江医药股份有限公司新昌制药厂
发明人:
毛文华,吴亚铭,黄志明,周苗
申请号:
CN201210347844.4
公开号:
CN103665101A
申请日:
2012.09.19
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
本发明提供了普那霉素ⅡA晶体及其制备方法和用途、以及含有治疗有效量的所述普那霉素ⅡA晶体的药物组合物,所述普那霉素ⅡA晶体在X射线图谱中具有下述2θ角的特征峰:6.0、8.7、9.7、12.0、12.7、13.2、14.8、18.1、19.6、20.9、21.3、21.8、22.5、23.3,并且所述普那霉素ⅡA晶体的熔点为206℃~210℃。本发明的普那霉素ⅡA晶体纯度高、稳定性好,有助于提高普那霉素的生物利用度。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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