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Light irradiation system for skin and method of controlling light irradiation system for skin
专利权人:
INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION, CHOSUN UNIVERSITY;PARK, JOUNG WOOK
发明人:
LEE, JIN RYEOL,이진렬,PARK, JOUNG WOOK,박정욱
申请号:
KR1020180003468
公开号:
KR1019971150000B1
申请日:
2018.01.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
One embodiment of the present invention is a light irradiation system for a skin of a user containing a light irradiating unit and a light irradiating control unit. The light irradiating unit comprises: a first light source member having one or more light sources having a first wavelength; a second light source member having one or more light sources having a second wavelength larger than the first wavelength; a third light source member having one or more light sources having a third wavelength larger than the second wavelength; and a maintaining light source member having one or more light sources having a fourth wavelength in at least a range of an area overlapping with the first wavelength, the second wavelength and the third wavelength. The light irradiating control unit comprises: a first light source control member for controlling the first light source member; a second light source control member for controlling the second light source member; a third light source control member for controlling the third light source member; and a maintaining light source control member for controlling the maintaining light source member. The present invention differently controls levels of light of the first, second and third light source members irradiated from the light irradiating unit according to first, second and third periods sequentially through the light irradiating control unit, and maintains a level of light irradiated through the maintaining light source member. Accordingly, the present invention improves skin care managing properties and the convenience of skin care management. 본 발명의 일 실시예는 광조사부 및 광조사 제어부를 포함하는 사용자의 피부용 광조사 시스템으로서, 상기 광조사부는 제1 파장을 갖는 하나 이상의 광원을 갖는 제1 광원 부재, 상기 제1 파장보다 큰 제2 파장을 갖는 하나 이상의 광원을 갖는 제2 광원 부재, 상기 제2 파장보다 큰 제3 파장을 갖는 하나 이상의 광원을 갖는 제3 광원 부재 및 적어도 상기 제1 파장, 제2 파장 및 제3 파장과 중첩되는 영역의 범위의 제4 파장을 갖는 하나 이상의 광원을 갖는 유지 광원 부재를 포함하고, 상기 광조사 제어부는 상기 제1 광원 부재를 제어하는 제1 광원 제어 부재, 상기 제2 광원 부재를 제어하는 제2 광원 부재, 상기 제3 광원 부재를 제어하는 제3 광원 부재 및 상기 유지 광원 부재를 제
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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