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断層像撮影装置
专利权人:
興和株式会社
发明人:
小林 直樹,角谷 佳洋
申请号:
JP2016531351
公开号:
JPWO2016002693A1
申请日:
2015.06.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
A measuring optical system 30 for making the measuring light divided by the beam splitter 20 incident on the target object, and a reference optical system 40 for making the reference light split by the beam splitter incident on the reference mirror 49, is reflected by the target object and returns A tomographic image of the target object is formed on the basis of the interference light generated by superimposing the measurement light coming out and the reference light reflected by the reference mirror. Optical components such as lenses and mirrors constituting the measuring optical system and the reference optical system correspond to each other, and the wavelength dispersion characteristics of the corresponding optical components are equal or equivalent.ビームスプリッタ20によって分割された測定光を対象物体に入射させる測定光学系30と、同ビームスプリッタによって分割された参照光を参照ミラー49に入射させる参照光学系40を備え、対象物体で反射され戻ってくる測定光と参照ミラーで反射されて戻ってくる参照光を重畳させて生成される干渉光に基づき対象物体の断層画像が形成される。測定光学系と参照光学系を構成する各レンズ、ミラーなどの光学部品はそれぞれ対応しており、対応関係にある光学部品の波長分散特性が同一ないし等価になっている。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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