一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法
- 专利权人:
- 商都县科技特派员工作站
- 发明人:
- 杜晓云,张秀,晋洁琼,郭金
- 申请号：
- CN201710131681.9
- 公开号：
- CN106912285A
- 申请日:
- 2017.03.29
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 汤东凤
- 摘要：
- 本发明公开了一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法。本发明沟畦为垄、沟相间的畦，垄上铺有滴灌带，垄上覆盖地膜，且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟，垄上定植作物。本发明方法包括以下步骤：在种植作物时，将平整好的定植地做成垄、沟相间的畦；在高垄上铺上滴灌带，将两垄和一条垄沟用地膜盖上，使地膜下面形成一条暗沟；将作物定植在被地膜盖上的两个高垄上，形成两高垄定植间隔一条膜下暗沟。本发明具有节水、节肥、节农药、节地、保土、保肥、增温、调温等优点，有效提高作物的品质、产量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
