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LOW-MOLECULAR POLYSULFATED HYALURONIC ACID DERIVATIVE AND MEDICINE CONTAINING SAME
专利权人:
오츠카 세이야쿠 가부시키가이샤;오츠카 가가쿠 가부시키가이샤
发明人:
카케히 카즈아키,아사이 히로아키,하야시 나오히로,시미즈 사토시,고토 후미타카,코가 야스오,토모야스 타카히로,타키 타카오,카토 유스케,나카자토 사토루,타카바 준지,아즈마 아츠시,히라노 와카코,이즈미 카즈나리,카시모토 미노루,사카모토 요코,하야시 타카시,니시다 마사루
申请号:
KR1020117017561
公开号:
KR1016784290000B1
申请日:
2010.02.01
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention provides low molecular weight polysulfated hyaluronic acid derivatives useful for the prevention and / or treatment of allergic diseases. The present invention also relates to a pharmaceutical composition comprising a low molecular weight polysulfated hyaluronic acid derivative represented by the following general formula (IA) or (IB) or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient: pollen allergic rhinitis, allergic conjunctivitis, And an agent for the prevention and / or treatment of an allergic disease such as asthma. [Wherein n is a number of 0 to 15, and each R independently represents a hydrogen atom or an SO 3 H group]본 발명은 알레르기성 질환의 예방 및/또는 치료에 유용한 저분자량의 다황산화 히알루론산 유도체를 제공한다. 또한, 하기 일반식(ⅠA) 또는 (ⅠB)로 표시되는 저분자량 다황산화 히알루론산 유도체 또는 그 제약학적으로 허용되는 염을 유효성분으로 하는, 화분증, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 아토피성 피부염 및 천식 등의 알레르기성 질환의 예방 및/또는 치료제를 제공한다. [식 중, n은 0∼15의 수, R은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 SO3H기 등]
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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